摘要: 摘要 探究了用Ground-Plane(接地平面技术)来制作的FinFET的物理特性,减小了源漏之间的连接电场,减小了DIBL效应 SOI-FinFETS的优点是:小的漏电流,小的源/漏体电容,更高的饱和电流,更好的亚阈值特性,对于衬底掺杂的敏感度更低 阅读全文
posted @ 2021-07-05 12:42 MengPlus 阅读(116) 评论(0) 推荐(0)
摘要: 提出了GAA圆柱纳米线的寄生栅电容模型,源漏外延的区域也考虑进来,寄生栅电容分为四部分 阅读全文
posted @ 2021-07-05 10:14 MengPlus 阅读(152) 评论(0) 推荐(0)
摘要: Abstract 8nm直径垂直堆叠的Si 纳米线,通过RMG(Replacement Metal Gate)工艺在体硅上生长,短沟道特性非常好(SS=65mV/dec,DIBL=42mV/V当LG=24nm),Si 纳米线下的寄生沟道通过GP(Ground Plane)得到了有效抑制 1.以体硅进 阅读全文
posted @ 2021-07-04 21:08 MengPlus 阅读(232) 评论(1) 推荐(0)
摘要: Phase 1 Content:文献调研及器件物理分析,确定GAA器件(包含MOL)的结构,在TCAD搭建GAA器件的三维结构。 Phase Target:确定MOL寄生电容、寄生电阻分量的构成 Output:GAA器件(包括MOL)的结构化分析及MOL电容、电阻的模块化 Phase 2 Conte 阅读全文
posted @ 2021-07-04 20:41 MengPlus 阅读(599) 评论(0) 推荐(0)
摘要: AA:Active Area 有源区,在AA上形成源、漏、栅极,两个AA之间是用STI来隔离的 BEOL:Back end of line 后道工序 BTBT:Band-To-Band-Tunneling 带带隧穿 BOX:Buried oxide 氧化层 CD:Critical Dimension 阅读全文
posted @ 2021-07-04 19:42 MengPlus 阅读(2110) 评论(0) 推荐(1)