会员
周边
新闻
博问
闪存
众包
赞助商
Chat2DB
所有博客
当前博客
我的博客
我的园子
账号设置
会员中心
简洁模式
...
退出登录
注册
登录
foreverv
博客园
首页
新随笔
联系
订阅
管理
2022年3月19日
c笔试题-删除链表的倒数第 n 个结点
摘要: 给你一个链表,删除链表的倒数第 n 个结点,并且返回链表的头结点。 * struct ListNode { * int val; * struct ListNode *next; * }; 这段代码运行结果: 输入[1,2,3,4,5] 2 输出[1,2,3,4] 预期结果[1,2,3,5] 请指出
阅读全文
posted @ 2022-03-19 06:15 foreverv
阅读(52)
评论(0)
推荐(0)
2021年12月20日
26262
摘要: FUSA覆盖于整个开发流程
阅读全文
posted @ 2021-12-20 09:43 foreverv
阅读(43)
评论(0)
推荐(0)
2021年8月24日
光刻胶
摘要: 美国在 EDA 软件和光刻机上的话语权比较强,而光刻胶市场则由日本企业主导 2019年日韩发生贸易摩擦的时候,日本断供韩国包括光刻胶在内的多种关键原料,让三星和SK海力士这种芯片巨头无可奈何,损失极大 光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装
阅读全文
posted @ 2021-08-24 07:26 foreverv
阅读(246)
评论(0)
推荐(0)
公告