2021年8月24日
光刻胶
摘要： 美国在 EDA 软件和光刻机上的话语权比较强，而光刻胶市场则由日本企业主导 2019年日韩发生贸易摩擦的时候，日本断供韩国包括光刻胶在内的多种关键原料，让三星和SK海力士这种芯片巨头无可奈何，损失极大 光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装 阅读全文
posted @ 2021-08-24 07:26 foreverv 阅读(246) 评论(0) 推荐(0)