光刻胶

美国在 EDA 软件和光刻机上的话语权比较强，而光刻胶市场则由日本企业主导

2019年日韩发生贸易摩擦的时候，日本断供韩国包括光刻胶在内的多种关键原料，让三星和SK海力士这种芯片巨头无可奈何，损失极大

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

问题：什么叫掩模版