【自学嵌入式:模电】 53. pcb生产制造流程
53. pcb生产制造流程
一、典型生产进度示例
以订单编号 Y95 的核心板(型号:STC8H8K64U_PC...)为例,PCB 生产流程包含以下阶段(按时间顺序):
| 工序编号 | 工序名称 | 时间记录 |
|---|---|---|
| 1 | MI(工程准备) | 03-31 15:06 |
| 2 | 钻孔 | 03-31 16:09 |
| 3 | 沉铜 | 03-31 16:22 |
| 4 | 线路 | 03-31 16:49 |
| 5 | 图电(图形电镀) | 03-31 20:27 |
| 6 | AOI(自动光学检测) | 03-31 20:52 |
| 7 | 阻焊 | 03-31 23:47 |
| 8 | 字符 | 04-01 03:03 |
| 9 | 喷锡 | 04-01 03:45 |
| 10 | 测试 | 测试完成 |
| 11 | 锣边、V-CUT | 04-01 08:40 |
| 12 | QC(质量检验) | 04-01 10:14 |
| 13 | 发货 | 04-01 11:16 |
二、关键工艺步骤解析
1. 曝光
- 原理:将印有电路图形的底片与压覆感光干膜的基板对位,通过曝光机发射的紫外光(UV 光)照射,使干膜发生光化学反应,将底片图形转移到干膜上。
- 核心操作:需严格控制对位精度和曝光能量,确保图形转移的准确性。
2. 蚀刻
- 原理:经曝光、显影后,未被干膜/湿膜覆盖的铜面暴露。利用 酸性氯化铜溶液 的腐蚀性,溶解暴露的铜层,保留干膜保护的铜线路,最终形成设计的电路图形。
- 简化反应:铜与酸性氯化铜的反应可表示为 \(Cu + CuCl_2 = 2CuCl\)(实际为复杂氧化还原过程,此式仅作原理示意),溶解的铜离子随溶液循环排出。
3. 退膜
- 原理:使用 氢氧化钠溶液(碱性环境),将曝光后固化的干膜剥除。干膜在碱性条件下溶胀、溶解,脱离基板表面,露出下方的铜线路图形。
4. 棕化
- 目的:对多层 PCB 的内层铜面进行处理,通过化学方法使铜面形成 微观粗糙结构 + 有机金属层。
- 作用:增强层间(如铜层与绝缘层)的粘结力,防止后续压合时出现分层缺陷。
补充说明:以上为 PCB 生产核心工艺的简化解析,实际生产还涉及清洁、烘干、表面处理(如喷锡)、检测(如 AOI)等辅助工序,需通过标准化流程保障产品质量。
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