摘要: 在 20nm 以下的工艺中,由于相邻 metal wire 的间距太小,使得光刻过程中,相邻的光线间距过小,相互之间发生干涉,导致 metal wire 边缘模糊,出现瑕疵。 为了解决这个问题,先进工艺开始采用 double pattern(DPT),也称为 double mask,就是将原来的一层 阅读全文
posted @ 2019-09-18 17:14 いつまでも 阅读(7302) 评论(0) 推荐(0) 编辑