摘要:
在不使用外延层在同轴的半绝缘SIC衬底上制作4H-SIC横向双重注入金属氧化物半导体场效应晶体管。LDIMOSFET使用离子注入工艺从而形成电流通路层。共面波导作为栅极和漏极之间的漂移区。通过使用同轴半绝缘衬底和最优化的共面波导参数,1093伏特下的击穿电压和89.8兆欧姆·厘米2的特定导通电阻从20微米长的共面波导器件中被获得到。实验中得到的场效应晶体管的沟道迁移率为21.7cm2*V-1*S-1,品质因数(BV2/Ron,sp)为13.3 MW/cm2。 阅读全文
posted @ 2021-03-03 15:23
shihao_Yang
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