2024年11月21日
半导体光刻与刻蚀工艺
摘要： 半导体光刻与刻蚀工艺深度剖析 一、引言 在现代半导体制造领域，光刻与刻蚀工艺犹如精密的雕刻大师，将复杂的电路设计精准地转移到硅片上，为芯片的诞生奠定了基石。这两项工艺的不断演进，是推动半导体技术朝着更小尺寸、更高性能和更强大功能发展的关键驱动力。光刻工艺负责在硅片表面构建微小的图形结构，而刻蚀工艺则 阅读全文
posted @ 2024-11-21 15:52 不是你的cpf 阅读(1290) 评论(0) 推荐(0)