什么是 CPU 晶圆?
什么是 CPU 晶圆?
CPU 晶圆是由高纯度硅制成的一个大而平的圆形薄片,就像一个薄薄的比萨饼底。硅很特别,因为它可以像微小的开关一样工作,这对计算机来说至关重要。这个晶圆是制造中央处理器(CPU)的起点,而 CPU 是计算机和其他设备的“大脑”。
CPU 晶圆是由高纯度硅制成的一个大而平的圆形薄片,就像一个薄薄的比萨饼底。硅很特别,因为它可以像微小的开关一样工作,这对计算机来说至关重要。这个晶圆是制造中央处理器(CPU)的起点,而 CPU 是计算机和其他设备的“大脑”。
它是如何工作的?
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制造晶圆 : 科学家从沙子开始,提取硅,将其熔化形成纯晶体锭。这个锭被切割成薄薄的晶圆,然后被抛光得非常光滑和平整。
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构建电路 : 使用先进技术,制造商在晶圆上“绘制”微小的电路,就像在微观尺度上蚀刻地图一样。每块晶圆可以容纳数百或数千个这样的电路。
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切割 CPU: 一旦电路完成,晶圆就会被切割成更小的称为芯片的部分,每个芯片包含一个或多个 CPU。这些芯片随后被封装成我们在设备中看到的最终芯片。
它为何重要
这个过程能够实现高效、经济的 CPU 生产。晶圆的纯度(高达 99.9999999%)至关重要,任何缺陷都会毁掉 CPU。这是制造驱动现代技术的微小而强大的芯片的关键步骤。
这个过程能够实现高效、经济的 CPU 生产。晶圆的纯度(高达 99.9999999%)至关重要,任何缺陷都会毁掉 CPU。这是制造驱动现代技术的微小而强大的芯片的关键步骤。
调查笔记:CPU 晶圆功能性和制造过程的详细说明
本节提供了对 CPU 晶圆的全面概述,在直接回答的基础上,详细探讨了它们的作用、制造过程以及在半导体生产中的重要性。内容旨在模拟专业文章,为寻求更深入理解的读者提供严格超集的信息,包含技术细节。
CPU 晶圆简介
CPU 晶圆,简单来说,是一种薄薄的圆形半导体材料切片,通常是结晶硅,作为构建微电子器件(如中央处理器 CPU)的基础。硅源自沙子,因其半导体特性被选用,使其在施加电压时能充当开关——这是 CPU 功能的关键特征。现代 CPU 包含数百万个晶体管,所有这些晶体管都建在这些晶圆上,对于计算机、智能手机和其他电子设备处理数据至关重要。
晶圆的作用不是作为 CPU 本身运行,而是为制造集成电路(IC)提供一个稳定、均匀的基板。其圆形形状源自生产中使用的圆柱形锭,优化了制造效率,并允许最大程度地提高芯片良率。研究表明,晶圆尺寸随着时间的推移而发展,当前标准直径范围从 100 毫米到 450 毫米,尽管在 CPU 生产中,300 毫米(12 英寸)的晶圆最为常见。.
制造过程:从沙子到晶圆
CPU 晶圆的旅程始于原材料,并涉及多个复杂的步骤,每个步骤都对确保晶圆适合电路制造至关重要。
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硅提取和锭料形成 :
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该过程始于从沙子(SiO2)中提取硅,将其提纯以获得电子级硅,纯度达到 99.9999999%(9N)。这种高纯度至关重要,因为杂质会破坏电路功能。
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提纯后的硅在石英坩埚中熔化,通常添加少量具有导电性的元素(如砷、硼、磷或锑)以增强导电性。
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采用 CZO 法,将硅籽晶降低到熔体中,缓慢冷却并旋转取出,形成大型单晶锭(棒)。这个过程需要数小时,最终形成 6 英寸或更大的锭,具体取决于目标晶圆尺寸。.
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晶圆切片和抛光 :
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锭料被切割成薄片,通常厚度为1-2毫米,使用带有钻石边缘的快速锯片进行精确切割。锭料的端部和边缘被切掉并打磨,以确保纯度。
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然后对薄片进行圆化、打磨和化学及机械抛光,以获得镜面般的光滑表面,这对后续加工至关重要。这一抛光步骤可以去除缺陷并确保平整度,常被形容为“地球上最平整的东西”.
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薄片被加热进行退火以释放应力,并用激光检查缺陷,确保质量。可选地,可以添加一层单晶层(外延层)以增强电学性能。
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下表总结了标准薄片的尺寸、厚度和重量,突出了其芯片生产的能力:
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晶圆尺寸
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典型厚度
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每晶圆重量
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每晶圆 100 mm² Die
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|---|---|---|---|
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2英寸(51毫米)
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275 微米
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-
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9
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4英寸(100毫米)
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525 微米
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10克
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56
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6英寸(150毫米)
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675微米
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-
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144
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8英寸(200毫米)
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725微米
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53克
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269
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12英寸(300毫米)
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775微米
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125克
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640
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450 毫米(提议)
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925 微米
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342 克
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1490
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(来源: 晶圆(电子))
电路制造:在晶圆上构建 CPU
晶圆准备好后,会经历一系列工艺过程,以制造构成 CPU 的复杂电路。这一阶段是晶圆作为 IC 制造平台发挥作用的阶段:
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光刻与蚀刻 :
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光刻使用紫外线和掩模将电路图案转移到涂有光敏材料(光刻胶)的晶圆上。这个过程就像用光作画,形成微小的路径和晶体管。
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蚀刻去除不需要的材料,雕刻出电路设计,而离子注入则通过掺杂硅来改变其导电性,形成 CPU 运行所需的开关(晶体管)。
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薄膜沉积与互连 :
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沉积绝缘材料和导电材料(如二氧化硅和铜)的薄膜来构建层次结构。铜通常通过电镀形成互连,连接跨多个层(在先进的 CPU 中可达 20 层)的数百万个晶体管。
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这一步骤确保晶圆能够支持复杂的逻辑和内存功能,使 CPU 能够处理数据。
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测试与产率优化 :
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电路制造完成后,对晶圆进行功能测试,将其与参考电路进行比较以识别缺陷。目标是最大化可用芯片的数量,这是一个受芯片尺寸、宽高比和切割路径影响的复杂问题。.
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估计每晶圆芯片数量(DPW)的公式考虑了完整芯片,但未包含因缺陷导致的良率损失,这会显著影响生产成本。
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切割和封装:从晶圆到 CPU
一旦加工完成,晶圆便使用精密切割工具切割成单个芯片。每个芯片通常是正方形或矩形,包含一个或多个完整的 CPU 电路。芯片的大小(例如,现代 CPU 约为 10mm)和晶圆直径决定了可以提取多少个芯片,像 300mm 的大晶圆可产生高达 640 个芯片,对应 100mm²的芯片尺寸(见上表)。
晶圆被封装到保护性外壳中,通常带有散热器,以形成最终的 CPU 产品。这个封装步骤确保了耐用性和与电子设备的兼容性,性能根据频率、功耗和热特性(例如 Intel Core i7 的不同版本)进行分级。
重要性与行业背景
CPU 晶圆是半导体制造的基础,能够实现 CPU 的大规模生产。通过在单个晶圆上制造多个芯片,制造商降低了每个芯片的成本并提高了效率,这是满足全球需求的关键因素。2019 年,每月生产的硅晶圆超过 1200 万片,全球年产量超过 1.5 亿片。.
晶圆的圆形形状源自锭料,优化了生产效率和芯片良率,但同时也为最大化芯片布局带来了计算挑战,类似于数学中未解决的高斯圆问题。行业趋势,如推动450毫米晶圆的生产,旨在进一步降低成本,但由于技术挑战,采用仍然有限。
为什么晶圆是圆形的及其他细节
晶圆的圆形形状源于晶体生长过程中形成的圆柱形锭,这是 Czochralski 方法的一个实用结果。这种形状便于在制造过程中进行均匀处理和旋转,提高了效率。其他特征包括用于加工时对准的平坦面或凹口,以及用于切割的刻线,确保晶粒之间精确切割。
晶圆还包含对准和测试结构,这些结构虽然占用额外空间,但对于质量控制至关重要。该行业分为晶圆生产(锭生长和切片)和晶圆加工(制造),历史上美光和阳光电源等公司在美国处于领先地位。.
结论
总之,CPU 晶圆并非功能完整的 CPU,而是其生产的关键基板。它经历从沙子到硅锭的复杂过程,被切割成晶圆,并采用先进技术加工以构建电路。这些晶圆随后被切割成芯片,进行封装,成为驱动现代电子设备的 CPU。这一过程突显了晶圆作为半导体创新基石的作用,持续的进步推动着效率和性能的提升。
浙公网安备 33010602011771号