吴建明

摘要： 薄膜产品技术亮点 ALD 设备（工作原理） 工作原理 原子层沉积技术是将要参与反应的前驱物藉由不同的前驱物导管，如图1所示，一次只通入一种前驱物的方式，依序地将前驱物导引至反应腔体。并藉由基材表面饱和化学吸附，一次只吸附一层前驱物，过多的前驱物及副产物将由钝气Ar或N2冲洗(purge)带走，以达自 阅读全文

摘要： 点云与高精地图 阅读全文