原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）微电子制造铜金属化的研究进展

原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）微电子制造铜金属化的研究进展

Atomic Layer Deposition (ALD) and

Chemical Vapor Deposition (CVD)

of Copper-based Metallization

for Microelectronic Fabrication